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威大活性炭廠推薦電子廠房廢氣處理用煤質柱狀活性炭吸附效果理想：半導體廢氣處理裝置包括：流入廢氣的廢氣流入口；連接設置在上述廢氣流入口并提供空氣的空氣注入口；連接設置在上述廢氣流入口并具有吸附處理由流入口流入的廢氣的吸附層的吸附反應部；連接設置在上述吸附反應部并具有由吸附反應部排出的廢氣流入并對此進行催化處理的催化劑層的催化反應部；及連接設置在流入到上述催化反應部的廢氣的流動路徑中并提供水的水注入口。根據本發明，可以在８００℃以下去除從半導體制造工序或ＬＣＤ制造工序中產生的廢氣中所包含的難分解性過氟化物，可以根據催化劑的填充量處理含有大量以及／或者高濃度的過氟化物的廢氣。
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